В Москве создали первый в РФ фотолитограф с разрешением 350 нм
Компания-резидент ОЭЗ "Технополис Москва" создала первый фотолитограф в России с разрешением 350 нм. Об этом сообщил в Telegram-канале мэр Москвы Сергей Собянин.
"В мире меньше десяти стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства", — говориться в сообщении.
Собянин отметил, что фотолитограф создавался в сотрудничестве с белорусским заводом. Также мэр подчеркнул, что отечественный фотолитограф "серьезно отличается от зарубежных аналогов", так как в нем использовался твердотельный лазер в качестве излучения.
Собянин также сообщил, что сейчас идет разработка фотолитографа с разрешением 130 нм. Завершить его планируется в 2026 году.
По материалам информагентства ТАСС.
